化學拋光液添加劑

       化學機械拋光 (CMP)過程中拋光液是極其重要的材料，配方要求對氧化物粉體有良好的分散懸浮作用，同時由于機械拋光過程是比表面積不斷變化的過程，保持對表面的良好潤濕是保證化學氧化效果的關(guān)鍵，涂易樂用于CMP拋光液配方將提供有益的幫助。

涂易樂表面活性劑

    涂易樂表面活性劑能夠顯著降低拋光液的動態(tài)表面張力，保證拋光液對硅片表面的良好潤濕，確保液體與表面的充分接觸，同時由于涂易樂表面活性劑的低泡或消泡特性也防止微泡在硅片表面停留而影響拋光效果。涂易樂FS-600，superwet-300系列表面活性劑是用于拋光液的重要表面活性劑。

涂易樂分散劑

    涂易樂分散劑對氧化物顆粒保持持久的懸浮分散，保證拋光液體系的均勻穩(wěn)定，防止粉體沉降。涂易樂?DS-1702/DS-1705/DS-1708均是用于拋光液的良好分散劑。